（HfO2 微纳米二氧化铪，高纯氧化铪，超细氧化铪）
技术参数
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货号 |
平均粒径 |
纯度（%） |
比表面积（m2/g） |
体积密度（g/cm3） |
密度（g/cm3） |
晶型 |
颜色 |
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AM-HfO2-044-1 |
100nm |
>99.9 |
49 |
0.58 |
9.68 |
球形 |
白色 |
|
AM-HfO2-044-2 |
1000nm |
>99.9 |
15 |
1.73 |
9.68 |
近球形 |
白色 |
备注：根据用户要求可提供不同粒度的产品。
产品介绍
二氧化铪(HfO2)是铪元素的一种氧化物，常温常压下为白色固体。白色粉末，有单斜、四方和立方三种晶体结构，熔点2780~2920K。沸点5400K。热膨胀系数5.8×10-6/℃。不溶于水、盐酸和硝酸，可溶于浓硫酸和氟氢酸。由硫酸铪、氯氧化铪等化合物热分解或水解制取。为生产金属铪和铪合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化剂。
应用方向
二氧化铪(HfO₂)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料，近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注，由于它最可能替代目前硅基集成电路的核心器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO₂)，以解决目前MOSFET中传统SiO₂/Si结构的发展的尺寸极限问题。
贮存条件
本品应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果，另应避免重压，按照普通货物运输。
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